- 企业类型:
企业单位
- 经营模式:
制造商,服务商
- 荣誉认证:
- 注册年份:
2018
- 主 营:
磁控溅射镀膜靶材,PVD蒸镀材料,高纯贵金属靶材,贵金属及合金材料,陶瓷靶材,金属氧化物多元合金靶材,镀膜颗粒,日本溅射靶材,功能陶瓷锂电池靶材,靶材键合绑定Bonding,进口ITO靶材,稀贵金属回收业务,金靶铂靶,AZO旋转靶,IGZO靶材,铑靶材,镍铬合金靶材
- 地 址:
江苏省苏州市东昌园
|
|
艾拓斯新材料从事新材料镀膜材料研发及全球销售、服务为一体,是研发各种新型材料及陶瓷材料制品的综合性科技公司,公司以市场为先导,技术为基础,为满足国内外新材料的迫切需求, 对内进行产品,结构和生产工艺调整,对外紧跟市场动向,不断研发各种适用当前需要的新型材料及制品.根据客户的具体要求加工各类磁控溅射靶材、镀膜蒸镀蒸发材料并为客户提供技术上的服务与支持。材料种类广范有薄膜太阳能电池用镀膜材料及靶材;平面显示及触摸屏行业镀膜材料用镀膜材料及靶材;光学光通讯光存储、磁数据存储用镀膜材料及靶材;装饰与工模具用镀膜材料及靶材;建筑与汽车玻璃大面积用镀膜材料及靶材;各类半导体化合物材料,如热电转换材料,光电探测和传感焊接材料;各类稀土金属及稀土合金和其它功能合金材料; 扫描电子显微镜(SEM)专用贵金属片靶,同时公司还经销日本韩国台湾进口高端ITO镀膜靶材。 公司生产的真空溅射靶材及光学镀膜材料主要应用于:半导体芯片、装饰镀膜工业、太阳能光伏、数据储存工业(光盘)、平板液晶显示(TFT-LCD)、光伏通讯工业、玻璃镀膜(建筑玻璃和汽车玻璃)工业、抗腐蚀抗磨损(表面改性)等领域。公司生产的材料有各种高纯度稀贵金属,金属合金,陶瓷和陶瓷制品组成。靶材可以制成各种形状,大小和纯度,以满足设计规范,并提供靶材与背板的绑定服务(Bonding),真空陶瓷与金属的焊接金属化服务。 公司具有经验丰富的粉末冶金,真空熔炼,化合物半导体,稀土冶炼研发团队和经验丰富的管理人员组成,并与科研院校及海外公司有着多年的技术和人才合作。 生产设备主要有真空中频感应熔炼炉,冷坩埚悬浮熔炼炉,非自耗真空电弧炉,真空高温加热炉,真空烧结炉,真空蒸馏炉,区域熔炼熔炉,多温区加热炉,单晶炉,真空热压炉,高温烧结炉,冷压成型机,真空锻轧设备,车床,磨床,铣床,钻床,冲床,线切割等各种材料成型及机械加工设备。 公司秉承"用戶至上,信誉**"的宗旨,不断加强企业创新,加快实施品质和科技创新兴企战略,以**行业的工艺水准与技术储备,以完善的品质体系,为全球的客户服务,打造薄膜材料行业的品牌。 主要产品有各种磁控溅射镀膜靶材,蒸发镀膜材料,半导体化合物,高纯金属及贵金属靶材,稀土金属,稀土合金,中间合金,多元陶瓷材料及靶材。 金属溅射镀膜靶材: 金属铝靶材Al,金属锑靶材Sb,金属铋靶材Bi,金属镉靶材Cd,硼靶材B,碳靶材C,石墨靶材C,稀土金属铈靶材Ce,金属铬靶材Cr,金属钴靶材Co,金属铜靶材Cu,稀土金属镝靶材Dy,稀土金属铒靶材Er,稀土金属铕靶材Eu,稀土金属钆靶材Gd,锗靶材Ge,黄金靶材Au,金属铪靶材Hf,稀土金属钬靶材Ho,金属铟靶材In,金属铱靶材Ir,金属铁靶材Fe,金属镧靶材La,金属镥靶材Lu,金属镁靶材Mg,金属锰靶材Mn,难熔金属钼靶材Mo,稀土金属钕靶材Nd,金属镍靶材Ni,难熔金属铌靶材Nb,贵金属钯靶材Pd,贵金属铂靶材Pt,金属镨靶材Pr,金属铼靶材Re,贵金属钌靶材Ru,金属钐靶材Sm,金属硒靶材Se,金属钪靶材Sc,贵金属银靶材Ag,金属硅靶材Si,难熔金属钽靶材Ta,稀土金属铥靶材Tm,金属锡靶材Sn,金属钛靶材Ti,难熔金属钨靶材W,金属钒靶材V,稀土金属镱靶材Yb,稀土金属钇靶材Y,金属锆靶材Zr,金属锌靶材Zn,锇靶材Os,铑靶材Rh, 合金溅射镀膜靶材 铝铜合金靶材(Al-Cu),铝铬合金靶材(Al-Cr),铝镁合金靶材(Al-Mg),铝硅合金靶材(Al-Si),铝银合金靶材(Al-Ag),铈钆合金靶材(Ce-Gd),铈钐合金靶材(Ce-Sm),铬硅合金靶材(Cr-Si),钴铬合金靶材 (Co-Cr),钴铁合金靶材(Co-Fe),钴铁硼合金靶材(Co-Fe-B),铜钴合金 (Cu-Co) ,铜镓合金靶材(Cu-Ga),铜铟合金靶材 (CuIn),铜镍合金靶材 (Cu-Ni),铜锆合金靶材(Cu-Zr) ,铪铁合金(HfFe),铁硼合金 (Fe-B),铁碳合金 (Fe-C),铁锰合金 (Fe-Mn),铱锰合金(Ir-Mn),铱铼合金(Ir-Re),铟锡合金 (In-Sn),钼硅合金靶材 (Mo-Si),镍铝合金靶材(Ni-Al),镍铬合金靶材 (Ni-Cr),镍铬硅合金靶材 (Ni-Cr-Si),镍铁合金靶材 (Ni-Fe),镍铌钛合金靶材 (NiNbTi) ,镍钛合金靶材 (Ni-Ti),镍钒合金靶材 (Ni-V),钐钴合金靶材 (Sm-Co),银铜合金靶材 (Ag-Cu),银锡合金靶材 (Ag-Sn),钽铝合金靶材(Ta-Al),铽镝铁合金靶材 (TbDyFe),铽铁合金靶材(TbFe),钛铝合金靶材(Ti-Al),钛镍合金靶材 (Ti-Ni),钛铬合金靶材 (Ti-Cr),钨铼合金靶材(W-Re) ,钨钛合金靶材(W-Ti),锆铝合金靶材(Zr-Al), 锆铁合金靶材 (Zr-Fe) ,锆镍合金靶材 (Zr-Ni),锆铌合金靶材(ZrNb),锌铝合金靶材(ZnAl),锌镁合金靶材 (Zn-Mg) 高纯蒸发镀膜颗粒材料: 贵金属颗粒,金颗粒,白银颗粒,铂颗粒,钯颗粒,钌颗粒,铼颗粒,铱丝,铑颗粒,铑片,锇珠,金丝,金片,金条,银板以及常见金属颗粒蒸发材料。 陶瓷靶材 多元陶瓷镀膜靶材: 氧化铝靶材 (Al2O3),氧化锑靶材(Sb2O3),氧化锑掺锡靶材(ATO),钛酸钡靶材(BaTiO3),氧化铋靶材(Bi2O3),氧化铈靶材(CeO2),氧化铜靶材(CuO),氧化铬靶材(Cr2O3),氧化镝靶材(Dy2O3),氧化铒靶材(Er2O3),氧化铒靶材(Eu2O3),氧化钆靶材(Gd2O3),氧化镓靶材(Ga2O3),二氧化铪靶材(HfO2),氧化钬靶材(Ho2O3),氧化铟靶材(In2O3),氧化铟锡靶材(ITO),三氧化二铁靶材(Fe2O3),四氧化三铁靶材(Fe3O4),氧化镧靶材(La2O3),钛酸铅靶材(PbTiO3),锆酸铅靶材(PbZrO3),铌酸锂靶材(LiNbO3), 铁酸镥靶材(Lu3Fe5O12),氧化镥靶材(Lu2O3),氧化镁靶材(MgO),氧化钼靶材(MoO3),氧化钕靶材(Nd2O3),氧化钐靶材(Sm2O3),氧化钪靶材(Sc2O3),二氧化硅靶材(SiO2),一氧化硅靶材(SiO),钛酸锶靶材(SrTiO3),锆酸锶靶材(SrZrO3),五氧化二钽靶材(Ta2O5) ,氧化碲靶材(TeO2),氧化铥靶材(Tm2O3),二氧化钛靶材(TiO2),三氧化钨靶材(WO3),五氧化二钒靶(V2O5) ,氧化钇靶材(Y2O3),氧化锌靶材(ZnO),掺铝氧化锌靶材(AZO),氧化锆靶材(ZrO2),六硼化镧靶材 (LaB6),二硼化锆陶瓷靶材 (ZrB2) ,碳化四硼靶材(B4C),碳化钨靶材 (WC),氟化镁靶材(MgF2),氮化铝靶材 (AlN),氮化硼靶材 (BN),氮化镓靶材(GaN), 氮化铌靶材 (NbN),氮化硅靶材 (Si3N4),氮化钽靶材 (TaN),氮化钛靶材 (TiN),氮化锆陶瓷靶材 (ZrN) ,硫化锌陶瓷靶材 (ZnS),碲化镉陶瓷靶材 (CdTe)。 纯度: 99.95%--99.99%--99.995%--99.999% --99.9999%不等. 形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆管,台阶圆片,台阶矩形,其他客户订制 熔炼工艺靶材单片尺寸:直径 (<650mm),长度 (<1600mm),宽度 (<500mm),厚度 (>1mm) 陶瓷热压靶材单片尺寸: 直径 (18英寸) ,长度 (400mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm) 热等静压靶材坯料尺寸:长度 960mm*宽度 290mm*厚度 180mm 提供靶材与铜、钛、不锈钢材质背板的键合绑定,并提供稀贵金属的回收提纯加工再利用服务。 |
公司名称: |
艾拓斯新材料科技(苏州)有限公司 |
公司类型: |
企业单位 (制造商,服务商) |
所 在 地: |
江苏/苏州市 |
公司规模: |
|
注册资本: |
未填写 |
注册年份: |
2018 |
资料认证: |
|
经营模式: |
制造商,服务商 |
经营范围: |
磁控溅射镀膜靶材,PVD蒸镀材料,高纯贵金属靶材,贵金属及合金材料,陶瓷靶材,金属氧化物多元合金靶材,镀膜颗粒,日本溅射靶材,功能陶瓷锂电池靶材,靶材键合绑定Bonding,进口ITO靶材,稀贵金属回收业务,金靶铂靶,AZO旋转靶,IGZO靶材,铑靶材,镍铬合金靶材 |
销售的产品: |
稀贵金属溅射靶材|高纯金属合金靶|蒸发镀膜材料|日本溅射靶材|黄金靶|铂金靶|金锡合金靶|TFT-LCD平板液晶ITO靶材|功能陶瓷锂电池靶材|白银靶材|靶材键合绑定Bonding|金靶|铂靶|铱靶|锇靶|铑靶|AZO旋转靶|IGZO靶材|ITO靶材|PVD溅射蒸发颗粒 |
主营行业: |
|
|