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高纯贵金属钯(Pd)  科研实验材料  溅射镀膜 蒸发镀膜 半导体 纯度99.999%  尺寸可定制 提供背板绑定服务

 

贵金属靶产品总述：

    随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

 

稀贵重金属名称：	铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶
牌号规格：	Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 ：	主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

 

 

 

贵金属磁控溅射沉积镀膜钯靶材Palladium (Pd) Targets

规格尺寸：

形状	圆形、方形
尺寸	按客户要求定制加工
厚度	按客户要求定制
纯度	≥4N

注：具体尺寸请联系销售

 

贵金属钯（Palladium, Pd）

 一、高纯磁控溅射贵金属钯（Palladium, Pd）镀膜靶材、钯粒及钯板材料，以其独特的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中占据了举足轻重的地位。

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产单材质靶材如下：

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

二、材料特性：

高纯钯靶材、钯粒及钯板均具备极高的纯度，通常达到99.99%甚至更高（即4N或更高），这意味着它们在制造过程中几乎不含杂质，确保了镀膜过程的纯净性和最终产品的**性能。钯的密度为12.023 g/cm³，使得钯靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。同时，钯的熔点高达1554°C，这一特性赋予了钯靶材在高温环境下的稳定性和耐用性，为高温镀膜工艺提供了有力支持。

三、行业应用：

1、高纯钯靶材、钯粒及钯板材料展现出了多方面的优势。首先，其高纯度特性确保了镀膜过程中杂质引入的减少，从而提高了薄膜的纯净度和性能稳定性。这对于需要高精度和高可靠性的电子器件、光学元件及太阳能电池等领域来说至关重要。例如，在平面显示领域，高纯钯靶材被广泛应用于制备透明导电膜，使触摸屏和液晶显示器的显示效果更加清晰明亮；在太阳能电池领域，钯靶材则用于导电层和反射层的制备，提高了光电转换效率和入射光的利用率。

2、钯靶材、钯粒及钯板材料还因其良好的导电性、光反射性和耐腐蚀性能而受到青睐。这些特性使得钯材在制备导电薄膜、反射膜及耐腐蚀涂层等方面具有独特优势。例如，在半导体行业中，钯靶材可用于制备导电层和隔离层，确保电导率的稳定性和高致密性，避免杂质的进入；在光学元器件制造中，钯靶材则因其优异的反射性能而被用于反射镜的制备。

3、更为重要的是，高纯钯靶材、钯粒及钯板材料还具备可定制性，能够根据客户需求调整元素比例、规格和纯度。这种灵活性使得钯材在更多特定应用场合中展现出无限可能。例如，在科研实验中，研究人员可以根据实验需求定制钯靶材的规格和纯度，以获得理想的实验结果；在工业生产中，企业也可以根据产品特性选择合适的钯材种类和规格，以提高生产效率和产品质量。

综上所述，高纯磁控溅射贵金属钯镀膜靶材、钯粒及钯板材料以其独特的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，钯材的未来发展前景将更加广阔。

 

 

贵金属靶产品总述：

随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

 

稀贵重金属名称：铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶

牌号规格：Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1

用途：主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

 

产 品 详 情:  该材料主要用于仪器、仪表导电环及其他用途，如电容式变送器输油管等。

产品名称：高纯铂Platinum (Pt)溅射靶材及铂合金管材铂坩埚

牌号规格：Pt1、Pt2、PtRh10

用途备注：还应用于仪器、仪表导电环及其他用途，如电容式变送器输油管等

 

序  号	合金牌号	熔  点℃	密  度g/cm3	电 阻 率μΩ.cm	维氏硬度（不小于）
1	Pt1、Pt2	1769	21.4	9.9	110
2	PtIr10	1780	21.5	24	160

 

 

铂溅射靶材 (Platinum-Pt)，铂坩埚器皿

规格尺寸：

形状	圆形、方形、坩锅
尺寸	按客户要求定制加工
厚度	按客户要求定制
纯度	≥4N

注：具体尺寸请联系销售。

 

 

贵金属铂Platinum (Pt)

一、高纯贵金属铂Platinum (Pt)溅射镀膜靶材及铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料，作为现代高科技产业中的关键材料，以其**的物理特性和广泛的应用优势，在多个领域发挥着不可替代的作用。

PRECIOUS metaLS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：

 

 

 

二、材料特性：

1、首先，从材料特性来看，高纯铂靶材的纯度通常达到99.99%以上（即4N或更高），甚至可达99.999%（5N），这意味着其杂质含量极低，确保了镀膜过程的纯净性和最终产品的**性能。铂的密度为21.45g/cm³，使得铂靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。同时，铂的熔点和沸点分别高达1773℃和3827℃，这一特性赋予了铂靶材在高温环境下的**稳定性和耐腐蚀性，为高温镀膜工艺提供了坚实保障。

2、铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料则结合了铂的优异性能与合金的多元特性，通过调整合金成分，可以进一步优化材料的物理和化学性能，满足特定应用需求。这些颗粒材料在蒸发镀膜过程中，能够均匀且稳定地蒸发，形成高质量的薄膜，提升产品的整体性能。

三、在行业应用：

1、高纯铂靶材及铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料展现出了广泛的应用优势。在太阳能电池领域，铂靶材被用于制备高效电极，其高导电性和化学稳定性确保了电池的高效稳定运行。在平板显示器制造中，铂靶材则用于制作透明导电膜，提高了显示器的对比度和色彩准确性。此外，铂靶材还广泛应用于金属有机物化学气相沉积（MOCVD）等领域，为制备高质量薄膜和涂层提供了重要支持。

2、铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料在蒸发镀膜工艺中同样表现出色。它们不仅具有铂的高熔点和耐腐蚀性，还通过合金化提高了材料的机械性能和加工性能。这使得铂合金管坩埚能够在高温、高真空环境下稳定工作，为蒸发镀膜过程提供可靠的容器支持。同时，铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料还具有良好的蒸发性能和成膜质量，能够满足高精度、高要求的镀膜需求。

综上所述，高纯贵金属铂溅射镀膜靶材及铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料以其**的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，这些材料将继续为提升产品质量、推动产业升级贡献重要力量。

 

高纯度稀有金属铼靶材 磁控溅射靶材 Rhenium (Re) 铼钨铼钼合金靶板  PVD镀膜材料

 

产品名称：	铼靶 Rhenium (Re)
牌号规格：	Re1
用途 ：	主要用于高温恶劣条件下的电极材料，宇宙航空设备的部件制造。

 

产 品 详 情

铼是一种银色金属，由于铼的价格较高，因此在应用上受到了限制。可做为磁控溅射使用，常见的有铼板、铼坩锅、铼颗粒、铼丝材；铼的合金有钨铼合金（W-Re）、钼铼合金(Mo-Re)。由于钨铼、钼铼合金有着优异的高温强度和高温塑性，为此基材制作的各种结构件，加热器，异型零件被广泛的应用于航天航空，原子能，超高温合金，半导体磁控溅射，高温热场等业领域。

铼溅射靶材 Rhenium (Re)

形状	圆形、片状、坩锅、颗粒、丝材
尺寸	根据要求定制
厚度	按要求定制
纯度	≥4N

注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

 

贵金属铑（Rhodium, Rh）

 

一、高纯贵金属铑（Rhodium, Rh）溅射靶材、铑环及铑颗粒作为蒸发镀膜材料，以其**的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中占据着重要地位。

PRECIOUS metaLS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：

 

二、材料特性：

1、高纯铑溅射靶材的纯度通常达到99.95%以上，甚至可达99.999%的极高纯度，这意味着其杂质含量极低，能够确保镀膜过程的纯净性和最终产品的**性能。铑的密度为12.41g/cm³，这使得铑靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。此外，铑的熔点高达1966°C，沸点更是达到3695°C至3727°C之间，这一特性赋予了铑靶材在高温环境下的**稳定性和耐腐蚀性，为高温镀膜工艺提供了坚实保障。

2、铑环和铑颗粒作为蒸发镀膜材料，同样具备高纯度和优异的物理性能。它们能够在蒸发过程中均匀且稳定地释放铑原子，形成高质量的薄膜，满足高精度、高要求的镀膜需求。铑的高反射率和良好的导电性，使得其在光学和电子领域具有广泛的应用潜力。

三、行业应用：

1、高纯铑溅射靶材、铑环及铑颗粒蒸发镀膜材料展现出了显著的优势。在电子工业中，铑靶材被广泛应用于制备高精度电阻、传感器以及高频电子设备的关键部件。其高纯度和稳定性确保了电子元件的高精度和长寿命。同时，铑的高反射率也使其成为制作高反射率反射镜和光学元件的理想材料。

2、在镀膜行业中，铑环和铑颗粒蒸发镀膜材料被用于制备高性能的镀膜层，如汽车玻璃、建筑玻璃以及光学信息存储介质等。铑镀层不仅色泽坚固、不易磨损，而且反光效果好，能够显著提升产品的外观和性能。此外，铑镀层还具有良好的耐腐蚀性和化学稳定性，能够在恶劣环境下保持长久的性能。

3、铑靶材还在化工生产中发挥着重要作用。它可以用于制备催化剂，如铑基氧化物催化剂，在有机合成和石油化工反应中展现出优异的催化性能。这些催化剂能够加速反应速率、提高产率和选择性，为化工行业的发展提供了有力支持。

综上所述，高纯贵金属铑溅射靶材、铑环及铑颗粒蒸发镀膜材料以其**的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，这些材料将继续为提升产品质量、推动产业升级贡献重要力量。

 

高纯度贵金属 钌（Ru）磁控溅射镀膜沉积靶材PVD镀膜材料蒸发颗粒 科研实验 尺寸定制

 

产品名称：	钌（Ruthenium -Ru）溅射靶材
牌号规格：	Ru2
用途备注：	钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等

 

产 品 详 情

   贵金属钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术，能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌(Ru)溅射靶材。

规格尺寸
形状	圆形、方形
尺寸	Φ10~200mm
厚度	3~15mm
纯度	4N
注：其它尺寸可根据客户要求制作。

 

 贵金属钌（Ruthenium, Ru）

 

一、高纯贵金属钌（Ruthenium, Ru）作为磁控溅射镀膜沉积靶材及PVD镀膜材料、蒸发颗粒材料，以其独特的物理和化学性质，在多个高科技领域展现出显著的应用优势。

PRECIOUS metaLS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：

 

二、材料特性：

1、钌靶材以其高纯度（如3N5级别）著称，确保了镀膜过程的纯净度和最终产品的优异性能。其密度达到12.37g/cm³，使得靶材在溅射过程中能够稳定且高效地释放钌原子。钌的熔点高达2334°C，这一特性使得钌靶材能够在极端高温环境下保持结构稳定，适用于高温、高压和腐蚀环境中的镀膜需求。

三、市场应用领域：

1、在磁控溅射镀膜技术中，高纯钌靶材发挥着关键作用。该技术通过高能离子轰击靶材表面，使钌原子蒸发或溅射，最终沉积在基板表面形成致密、均匀的薄膜。这种薄膜不仅具有高耐腐蚀性，还具备优异的导电性，为电子器件、光学元器件等产品的性能提升提供了重要保障。例如，在平面显示领域，高纯度钌薄膜可用于制作透明导电电极，提高显示屏的透光性和触摸灵敏度；在光学元器件领域，钌薄膜则可用于制造反射镜、滤波器等，提升光学系统的整体性能。

2、钌蒸发颗粒材料也因其高纯度、高密度和高熔点而备受青睐。在蒸发镀膜工艺中，钌颗粒被加热至高温并蒸发，随后沉积在基板表面形成薄膜。这种工艺同样能够制备出高质量、高性能的钌薄膜，广泛应用于太阳能电池、节能玻璃等领域。例如，在太阳能电池领域，钌薄膜可用作背反射层，提高光电转换效率；在节能玻璃领域，钌薄膜则能赋予玻璃良好的隔热性能和可控光透过率，降低建筑能耗。

 

钌靶材和蒸发颗粒材料的行业应用优势不仅体现在其优异的物理和化学性能上，还体现在其广泛的适用性和灵活性上。无论是科学研究还是工业生产，钌靶材和蒸发颗粒材料都能提供可靠、高效的解决方案。同时，随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展，钌靶材和蒸发颗粒材料的市场需求也将持续增长，为相关产业的发展注入新的动力。