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一、钼箔的基本特性

钼箔是一种由钼元素制成的薄膜材料，具有高熔点、高强度、高导热性和良好的耐腐蚀性等特点。钼的熔点高达3422°C，是所有金属中熔点*的，这使得钼箔在高温环境下具有优异的稳定性。此外，钼箔还具有良好的电导率和热导率，使其在电子和热管理领域具有广泛的应用前景。

二、钼箔的生产方法

钼箔的生产主要有两种方法：机械加工法和化学气相沉积法（CVD）。

1. 机械加工法：通过将钼棒或钼板进行机械加工，如轧制、拉伸、切割等，制成不同厚度的钼箔。这种方法生产出的钼箔具有较好的机械性能，但可能会引入表面缺陷和杂质。

2. 化学气相沉积法：通过在高温下，将含钼气体（如三氯化钼）在真空或惰性气体环境中分解，使钼原子沉积在基底材料上，形成钼箔。CVD法生产出的钼箔具有较高的纯度和良好的表面质量，但成本相对较高。

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