抗氢氟酸胶带是以聚酯薄膜为基材,涂布特殊丙烯酸胶制作而成的光学保护膜,是专为晶圆蚀刻制程及二次强化而设计制造的耐酸保护膜。在PET或PO基材上涂布低粘着之压克力黏胶而成,保护晶圆在蚀刻过程中耐氢氟酸及盐酸等,不被腐蚀、不起泡脱落,也不会把线路涂料拔起。符合RoHS及无卤要求.应用于集成电路( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,其他方面用量较少。
- QTMT755035抗氢氟酸膜
产品简介
品名
QTMT755035(抗氢氟酸膜)
产品结构
面材
底纸
材料名称
PET膜
材料名称
PET离型膜
厚度 mm
0.075+0.005
厚度 mm
0.05+0.002
基重 g/m
105±10
基重 g/m
65±3
颜色
雾面
颜色
透明
粘胶
胶系
压克力
粘着力g/25mm
70±10 上胶厚度mm
0.035+0.002
剥离力g/25mm
10+3
上胶量g/m
35±2
适用温度
-20-100℃
保存环境
通风.干燥.避免日光30℃×60%RH↓
备注:以上各种技术资料是本公司采用公认可靠的检验方法,经多次检验所得出的平均数据.但为确保正确选择与使用本公司的产品,对于您想要选择的型号,请对其使用目的和工作环境与试用或通知本公司,以便为您提供更进一步说明与服务!
耐酸测试条件:氢氟酸浓度40%,时间1小时