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二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材
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产品: 浏览次数:97二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材 
规格: 根据客户要求定制
单价: 1000.00元/片
最小起订量: 1 片
供货总量: 10 片
发货期限: 自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-03-13 14:13
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详细信息
  • 品名:二氧化硅靶材
  • 牌号:靶材
  • 产地:北京
  • 主要金属含量:99.99%
  • 杂质含量:0.01%
  • 粒度:300

科研实验专用二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

       二氧化硅(SiO2)常温下为固体,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反应,但溶于氢氟酸及热浓磷酸,能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料,是科学研究的重要材料。

产品参数

中文名 二氧化硅       化学式 SiO₂                  分子量 60.084

密度 2.2 g/cm3        熔点 1650(±50)℃   沸点 2230℃

纯度 99.99%

支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库



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