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碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材
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产品: 浏览次数:156碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材 
规格: 根据客户要求定制
单价: 1000.00元/片
最小起订量: 1 片
供货总量: 10 片
发货期限: 自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-03-13 15:12
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详细信息
  • 品名:碳化铬靶材
  • 牌号:靶材
  • 产地:北京
  • 主要金属含量:99.9%
  • 杂质含量:0.01%
  • 粒度:300

科研实验专用碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      碳化铬(Cr3C2)为灰色粉末,有金属光泽;斜方晶系;密度为6.68g/cm³,熔点:1890℃,沸点:3800℃;在高温环境下(1000~1100℃)具有良好的耐磨、耐腐蚀、抗氧化性能;属于金属陶瓷。用作硬质合金的晶粒细化剂及其他耐磨、耐腐蚀元件;以Cr3C2为基的金属陶瓷在高温下有极优异的抗氧化性能;粗粒碳化铬作为熔喷材料在金属及陶瓷表面形成熔喷覆膜,赋予后者以耐磨、耐热、耐蚀等性能,广泛用于飞机发动机及石油化工机械器件上,以大大提高机械寿命;亦用于喷制半导体膜。

产品参数

中文名 碳化铬         化学式 Cr3C2        分子量 180.01

熔点 1890℃            沸点 3800℃         密度 6.68g/mL

纯度 99.9%

支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库



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