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等离子去胶机采用高密度微波等离子技术，微波等离子清洗机作为一种绿色无污染的高精密干法清洗方式, 可以有效去除表面污染物,避免静电损伤，微波等离子清洗机广泛用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理，微波等离子高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。

微波等离子清洗去胶设备是下列用途的理想方式：

等离子体表面改性

有机物表面等离子体去胶

邦定强度增强

等离子体清洗机刻蚀应用等离子体灰化应用

增强或减弱浸润性

微波等离子清洗设备适用于半导体和复合材料工业的表面活化，清化和镀膜工艺