去磷硅清洗设备主要功能是对去磷硅的清洗、干燥在同一台设备上完成。设备型号:NXXD-0806;整机尺寸(参考):详见图纸;被清洗硅片尺寸:125*125*0.20mm / 156*156*0.20mm;产量 :1600片/小时(156×156×0.20mm);每批处理量:200片(156×156×0.20mm);节拍 :450秒;200片盒尺寸:600×395×205mm锯齿型片盒;处理重量:40kg;一般用在工艺后,硅片保持湿润,配上超声能更好的去处颗粒。HF腐蚀后一般都配置OF而不配置QDR,主要是HF处理后硅片为疏水性,OF能更好的去处污染。进水阀门采用bypass形式;
设备制造:江苏英思特半导体科技有限公司