点击图片查看原图• 感光波段：i-line、g-line
• 可替代SU-8光刻胶
• 化学放大胶，附着力好，电镀稳定
• 非常高的灵敏度，易去胶
• 图形边缘结构陡直，分辨率高，覆盖能力强
• 用于耐刻蚀工艺、电镀、 MEMS 、晶圆级封装等
国产SU-8 厚膜负性光刻胶
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国产SU-8 厚膜负性光刻胶
详细信息
• 感光波段：i-line、g-line • 可替代SU-8光刻胶 • 化学放大胶，附着力好，电镀稳定 • 非常高的灵敏度，易去胶 • 图形边缘结构陡直，分辨率高，覆盖能力强
• 用于耐刻蚀工艺、电镀、 MEMS 、晶圆级封装等
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