点击图片查看原图• 曝光波长：i-line、g-line
• 高灵敏度，最高分辨率可达0.4µm（0.3μm/0.8μm厚）
• 高对比度，出色的尺寸精度
• YK-300 可防止驻波的影响
• 优异的耐干法刻蚀能力，稳定至120℃
• 用于集成电路加工、掩膜板制作等
高精度正性光刻胶
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高精度正性光刻胶
详细信息
• 曝光波长：i-line、g-line • 高灵敏度，最高分辨率可达0.4µm（0.3μm/0.8μm厚） • 高对比度，出色的尺寸精度 • YK-300 可防止驻波的影响 • 优异的耐干法刻蚀能力，稳定至120℃ • 用于集成电路加工、掩膜板制作等
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