点击图片查看原图• 感光波段：i-line
• 成膜均匀性好，固化前后膜缩率低
• 可作 钝化层、介电层、缓冲层以及α粒子屏蔽层
• 优异的结构稳定性
• 良好的粘附能力，耐干耐酸碱和有机溶剂的侵蚀。
• 铜兼容性好：显影无残留
JT-550光敏聚酰亚胺光刻胶负胶/正胶/PI
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JT-550光敏聚酰亚胺光刻胶负胶/正胶/PI
详细信息
• 感光波段：i-line • 成膜均匀性好，固化前后膜缩率低 • 可作 钝化层、介电层、缓冲层以及α粒子屏蔽层 • 优异的结构稳定性 • 良好的粘附能力，耐干耐酸碱和有机溶剂的侵蚀。 • 铜兼容性好：显影无残留
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