点击图片查看原图• 感光波段：i-line、g-line
• 化学放大胶，附着力好，电镀稳定
• 非常高的灵敏度，易去胶
• undercut角度大，分辨率高，覆盖能力强
• 用于耐刻蚀工艺、电镀、光栅、 MEMS 、 Lift-off等
Lift off光刻胶负性/正性/LOR
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Lift off光刻胶负性/正性/LOR
详细信息
• 感光波段：i-line、g-line • 化学放大胶，附着力好，电镀稳定 • 非常高的灵敏度，易去胶 • undercut角度大，分辨率高，覆盖能力强 • 用于耐刻蚀工艺、电镀、光栅、 MEMS 、 Lift-off等
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