• deep UV (248–266 nm)
• 高灵敏度,高分辨率
• 高对比度、化学增幅型
• 优异的结构稳定性
• 良好的粘附能力,可用于耐干法和湿法刻蚀工艺
暂未查询到工商信息
企业特殊行业经营资质信息公示
广东吉田半导体材料有限公司普通会员
更多产品分类 站内搜索 更多友情链接
|
KRF正性光刻胶JT-4K深紫外254NM
详细信息
• deep UV (248–266 nm) • 高灵敏度,高分辨率 • 高对比度、化学增幅型 • 优异的结构稳定性 • 良好的粘附能力,可用于耐干法和湿法刻蚀工艺
|