设备简介:
流化床化学气相沉积(Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition, FBCVD)技术的三温区立式管式炉。FBCVD技术是在炉内的流化床区域内进行,其中固体颗粒在上升的气体流作用下呈现类似于液体沸腾的状态,这样不仅能够增加物料与反应气体的接触面积,还能够促进均匀受热和反应物质的高效转化,常用于制备薄膜、粉末等各种材料。此设备除了具备普通三温区管式炉的基本特征外,还针对流态化反应进行了优化设计,例如强化气体流动和分布、确保流化床区域的稳定流态化状态等。在实际应用中,它可以用于碳纳米管、石墨烯等**材料的生长,以及催化剂的制备和改性等领域。
设备特点:
1、高温烧结。
2、控制稳定可靠,操作方便,安全防护措施完善。
3、采用**的PID自学习模糊控制,控温精度高,保持在±1℃。
4、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗。
5、具有物联网功能(WIFI),可通过手机、电脑远程对设备进行监控,操作。
6、数据存储功能,可保存烧结的重要参数,时长达30天之久(每天开机8小时)。
7、配方功能,可预存配方20条以上。
8、联网功能,通过RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件)。
服务支持:一年有限保修,提供终身支持