设备简介:
双温区的PECVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。
主要特点:
1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染;
2. 上开启式结构,方便观察试样;
3. 产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示;
4. 可通过炉体滑动来达到快速升温和快速降温的效果;
5. 稳定的射频电源,均匀的温度分布,提高成膜质量。
服务支持:一年有限保修,提供终身支持。