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主营: 光掩膜基版| 匀胶铬版| 真空溅射镀膜| 光刻涂胶 玻璃抛光
匀胶铬版是一种硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。
光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板,通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版。简单地说,光掩膜基版在被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。
匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点,当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。