EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG公司是世界上**的基片键合设备制造商,其键合工艺被认定为MEMS领域的标准工艺。EVG键合系统可实现阳极键合、热压键合、中间层粘着键合、 玻璃浆料键合、硅-硅直接键合、共晶键合及SOI键合等所有键合工艺。EVG键合设备型号齐全,从手动装片系统到全自动片盒送片多工艺室系统,可以满足不同客户的应用要求。无论手动/半自动装片系统, 键合工艺全部自动完成;而且,独特的基片夹具及键合室结构设计,可实现高精度的圆片键合;此外上/下极板为独立分别加热控制,*加热温度可达650度。
EVG501是一款主要用于研发的高度灵活的键合系统,既可以处理很小的碎片也可以处理200mm的晶圆。可以支持各种形式的键合,如阳极键合、玻璃焊料键合、共晶、扩散、融合、焊接和粘结键合;也可以支持其他热处理过程如氧化物移除和高温烘烤等。EVG501在夹具更换时非常方便,更换时间一般不超过5分钟,大大减少了客户的操作时间和培训费用,因此EVG501是一款非常适合研发和小量生产的设备。
二、应用范围
主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级**封装以及3D互联、TSV工艺等。
三、主要特点
u *化降低客户总拥有成本(TCO)
u *键合温度450度,压力10KN
u **的硅片低压契型补偿系统以提高良率
u 温度均匀性: <+/- 1% ;压力均匀性:<+/- 5%
u 工艺菜单与其他键合系统通用
u 高真空度键合腔室 (可低至 10-5 mbar,使用分子泵)
u 开放式腔室设计便于快速转换和维护
u 基于Windows 的控制软件和操作界面
u 最小化占地占地面积--- 200 mm键合系统占地 0.88 m2
四、技术参数
加热器尺寸=*晶片尺寸(mm) |
150mm 或200mm |
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最小硅片直径 |
150mm加热器:单一小片或碎片;200mm加热器:100mm |
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键合卡盘/对准系统 |
150mm加热器 |
EVG610,EVG620,EVG6200 |
200mm加热器 |
EVG6200,MBA300,Smartview |
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键合腔 |
*接触压力 |
3.5KN,10KN,20KN |
*温度 |
450℃ |
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真空度 |
0.1mbar(标配),1E-5(可选) |
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阳极键合功率 |
0-2000V,0-50A |
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腔室个数 |
1 |
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上料腔室 |
手动 |
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工艺菜单 |
与其他键合设备兼容 |