将切割好的晶粒DIE互相间均匀得扩开,以方便下道工序。
产品特点:
1.简单快速地将切割后的芯片间距均匀地增大的尺寸。
2.带加热且温度可调的台设计,可令扩膜效果更好,且可大大提高扩膜高度,以满足不同的客户需求。
3.适用于3”/4”/5”/6”/8”Wafer;
适用于8”的frame和6”/8”绷环。
4.扩膜高度可调。
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将切割好的晶粒DIE互相间均匀得扩开,以方便下道工序。
产品特点:
1.简单快速地将切割后的芯片间距均匀地增大的尺寸。
2.带加热且温度可调的台设计,可令扩膜效果更好,且可大大提高扩膜高度,以满足不同的客户需求。
3.适用于3”/4”/5”/6”/8”Wafer;
适用于8”的frame和6”/8”绷环。
4.扩膜高度可调。
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