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天津华诺普锐斯科技有限公司

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  • 企业类型:

    个体经营

  • 经营模式:

    制造商,贸易商

  • 荣誉认证:

       

  • 注册年份:

    2018

  • 主     营:

    激光刻字,激光刻字加工

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TJ硬掩膜激光加工非金属掩膜版精密切割微结构定制
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产品: 浏览次数:56TJ硬掩膜激光加工非金属掩膜版精密切割微结构定制 
最小孔径: 20um
是否定制:
是否库存:
单价: 32.00元/件
最小起订量: 10 件
供货总量: 1000 件
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-08-22 14:20
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详细信息
  • 加工类型:激光切割
  • 工件材质:不锈钢
  • 加工产品范围:电子元件
  • 打样周期:1-3天
  • 加工周期:4-7天
  • 年最大加工能力:1000
  • 年剩余加工能力:1000

TJ硬掩膜激光加工非金属掩膜版精密切割微结构定制

华诺激光是一家专业致力于研发、生产和加工激光打孔、激光切割、激光焊接等高新技术企业。公司座落在于北京玉泉营,并在天津设立分公司,华诺激光拥有现代化生产基地,公司秉承“求实、求新、求质、求效”的企业精神,吸收了大批“德才兼备”人士为企业之用。

掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。

掩膜版的应用

每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。

掩模和光刻工艺是很关键的,因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线,电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝光 。

掩模版的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中,掩模版作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间,它并不和晶圆有直接接触。掩模版上的图形缩小4~10倍(现代光刻机一般都是缩小4倍)后投射在晶圆表面。为了区别于接触式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又称为倍缩式掩模(reticle)  。

 

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