点击图片查看原图用途：高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。
技术参数：
纯度：4N-5N
尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm
可根据客户要求定制
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用途：高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。 技术参数： 纯度：4N-5N 尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm 可根据客户要求定制
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