硅靶材又称高纯硅靶材、硅溅射靶材,是一种半导体用溅射靶材,纯度稳定达到99.99%及以上,采用喷涂成型与精密加工,组织均匀、致密度高,溅射速率稳定、成膜致密平整、缺陷少。旋转靶结构设计使靶材利用率显著提升,减少拼接缝,适合大面积连续镀膜。用途方面,硅靶材主要用于半导体电子工业的导电膜、介质膜及功能薄膜制备,广泛服务集成电路、分立器件、传感器等制造环节的磁控溅射镀膜。
公司作为国家高新技术企业、专精特新小巨人企业,拥有数十项自主知识产权,通过ISO三体系及SONY GP绿色认证。包装采用防静电珍珠棉独立分隔,外层加厚瓦楞纸箱封装,长靶另配木架固定,防潮防撞;支持来图定制与邦定加工,面向全国及广州、深圳、东莞等珠三角重点城市供货与技术服务,发货附带材质证明与检测报告,确保到货完好无损。

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