钨钛靶材又称高纯钨钛靶材、WTi靶材,是一种高纯钨钛合金溅射靶材,纯度稳定99.995%及以上(4N5级,W-Ti配比可定制),采用真空熔炼与粉末冶金工艺制造,合金组织均匀、成分稳定、致密度高,溅射速率平稳、成膜结合力强。旋转靶结构设计提升靶材利用率,减少换靶频次,适合半导体产线连续镀膜。用途上,钨钛溅射靶材主要用于集成电路铜互连的扩散阻挡层与通孔阻隔层,较纯钛阻挡层热稳定性与抗电迁移更优,也用于**封装再布线层。
公司作为国家高新技术企业、专精特新小巨人企业,拥有多项自主知识产权,通过ISO三体系及SONY GP绿色认证。包装采用真空包装独立封装,长靶另配木架固定,附材质证明与检测报告,面向全国及广州、上海、无锡等半导体产业重点城市供货,支持物流或自提,量大价格可议。

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