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氧化铌靶材即Nb2O5靶材、五氧化二铌靶材，是一种高纯铌氧化物陶瓷溅射靶材，纯度稳定99.95%及以上，经成熟喷涂与热喷涂工艺成型，组织均匀致密，相对密度95%以上，电阻率低于0.1欧姆厘米，溅射弧光少、颗粒低、成膜均匀。旋转靶结构提升靶材利用率、减少拼接缝，适配大面积连续镀膜产线长时间运行，也可提供平面靶与背板邦定加工。用途上，氧化铌溅射靶材主要用于低辐射镀膜玻璃即节能建筑玻璃与汽车玻璃的铌功能层制备，提升隔热节能性能，也用于光学增透膜与薄膜太阳能等场景。

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