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镍靶材即Ni靶材、高纯镍靶材，是一种高纯金属溅射靶材，纯度稳定99.9%及以上即三个九，经成熟冷喷涂与超音速喷涂工艺成型，组织均匀致密，相对密度达8.6以上（理论密度8.9），晶粒细小、溅射稳定、弧光少、成膜均匀。旋转靶结构提升靶材利用率、减少拼接缝，适配大面积连续镀膜产线长时间运行，也可提供平面靶与背板邦定加工。用途上，镍溅射靶材主要用于防伪标签与证件票证的功能镀层，作为全息防伪薄膜的基层与导电磁性层，显著提升防伪标识的****性，也用于光学可变器件与电子封装屏蔽层。

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