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氧化镁靶材又称MgO靶材、高纯氧化镁靶材，是一种高纯陶瓷溅射靶材，纯度稳定99.99%及以上（4N级），金属杂质单项控制在每百万分之十以内，材料纯净稳定。靶材密度达3.15克每立方厘米及以上，所成氧化镁薄膜绝缘性、介电性能与热稳定性优异。旋转靶经靶管焊接绑定，单件与整体结合率分别达96%与97%以上，溅射稳定、利用率高，最长拼接4000毫米，支持平面靶与绑定靶定制。

用途上，氧化镁溅射靶材主要用于半导体器件的功能薄膜与介电绝缘层，作为集成电路、功率器件及氮化镓、碳化硅等化合物半导体的缓冲层，也用于磁性存储器与铁电薄膜镀膜。

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