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Si靶材又称硅溅射靶材、高纯硅靶材，是一种半导体用溅射靶材，纯度稳定达到99.99%及以上，采用喷涂成型与精密加工，组织均匀、致密度高，相对密度达96%以上，溅射速率稳定、成膜致密平整、缺陷少。旋转靶结构设计使靶材利用率显著提升，减少拼接缝，适合大面积连续镀膜，亦可根据图纸定制平面靶与邦定加工。用途方面，硅靶材主要用于触摸屏与平板显示产线的功能膜、介质膜制备，服务电容屏、TFT面板及盖板镀膜环节，也广泛用于半导体电子与精密光学镀膜。

公司作为国家高新技术企业、专精特新小巨人企业，拥有多项自主知识产权，获SONY GP绿色合作伙伴资质。包装采用防静电真空袋单独封装，长靶配木架固定，防潮防撞；支持来图定制与邦定加工，面向全国及广州、惠州、南昌等触控与显示产业重点城市供货，发货附带材质证明与检测报告，确保到货完好无损。