氧化镁靶材又称MgO靶材、氧化镁溅射靶,是一种高纯陶瓷溅射靶材,纯度稳定99.99%及以上(4N级),金属杂质单项控制在每百万分之十以内,材料纯净稳定。靶材密度达3.15克每立方厘米及以上,所成氧化镁薄膜绝缘性、介电与热稳定性优异。旋转靶经靶管焊接绑定,单件与整体结合率分别达96%与97%以上,溅射稳定、利用率高,最长拼接4000毫米。作为溅射靶材,主要用于半导体器件的功能薄膜与介电绝缘层,作集成电路、功率器件及氮化镓、碳化硅化合物半导体缓冲层,也用于精密光学与铁电薄膜镀膜。
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