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高纯氧化镁靶材又称氧化镁靶、高纯MgO靶，是一种高纯陶瓷溅射靶材，纯度稳定99.99%及以上（4N级），金属杂质单项不超每百万分之十，批次一致性好。靶材密度达3.15克每立方厘米及以上，薄膜绝缘、介电与铁电性能优良。旋转靶采用靶管焊接绑定，单件与整体结合率分别达96%与97%以上，最长拼接4000毫米，溅射均匀稳定。作为MgO溅射靶材，多用于铁电薄膜、磁性存储器与高温超导缓冲层功能镀膜，也用于电子陶瓷元件。

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