石墨靶材又称C靶材、石墨溅射靶,是一种高纯碳质溅射靶材,采用高纯等静压石墨经精密加工成型,纯度可达99.99%及以上,杂质含量低、导电导热性好。靶材体积密度达1.8克每立方厘米及以上,结构致密、溅射稳定、膜层均匀。作为溅射靶材,主要用于薄膜太阳能电池的背电极与导电层制备,尤其适配铜铟镓硒(CIGS)电池生产线,也用于半导体器件的碳接触层与扩散阻挡层。
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