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高纯石墨靶材又称碳靶、C靶材，是一种高纯碳质溅射靶材，采用高纯石墨原料精密加工，纯度可达99.9%及以上，灰分低、导电性优良。靶材体积密度达1.8克每立方厘米及以上，组织均匀、溅射速率稳定、膜层致密。作为石墨溅射靶材，多用于半导体器件的导电接触层、欧姆接触与扩散阻挡层，也用于平板显示与集成电路的碳基功能膜。

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