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铝硅靶材又称AlSi靶材、铝硅合金靶，是一种用于半导体薄膜制备的高纯铝合金溅射靶材，以高纯铝为基底加入适量硅元素，整体纯度可达99.99%及以上（4N级），杂质含量低、成分均匀。靶材密度达2.6克每立方厘米及以上，组织致密、溅射稳定、膜层结合力好。作为铝硅溅射靶材，主要用于集成电路与半导体器件的铝硅互连线、电极与引线层制备，硅元素的加入有效抑制铝硅互扩散、减少结穿刺，提升器件可靠性，也用于平板显示与薄膜太阳能的铝硅功能膜。

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