高纯铝硅靶材又称铝硅靶、AlSi合金靶,是一种高纯铝合金溅射靶材,以高纯铝为基体复合硅成分,整体纯度可达99.99%及以上(4N级),成分均匀稳定、氧含量低。靶材密度达2.6克每立方厘米及以上,溅射速率稳定、膜层致密均匀。作为AlSi溅射靶材,多用于晶体硅与薄膜太阳能电池的背场与背电极层、平板显示的金属反射与引线膜,也用于光电与电子器件的铝硅合金导电膜。
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