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镍铬(NiCr)溅射靶材用于通过物理气相沉积(PVD)技术沉积镍铬合金电阻膜。该镍铬膜具有高电阻率、低电阻温度系数、高灵敏度和低温度依赖性等优点。镍铬合金电阻膜制备简便,PVD镀膜工艺成熟,镀层性能优异,因此主要用于混合集成电路中精密电阻膜的沉积,能够满足电阻应变计敏感膜的性能要求,常用于制备薄膜电阻应变计。
在PVD镀膜行业,NiCr二元合金靶材及其薄膜广泛应用于表面强化薄膜领域,例如耐磨、减磨、耐热耐腐蚀薄膜,以及低发射率玻璃、微电子、磁记录、半导体和薄膜电阻器等高端技术行业。