EVG®610 Mask Alignment System
EVG®610 掩模对准系统
EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统,可处理200mm以下的小基板片和晶圆。
技术数据
EVG610支持多种标准光刻工艺,例如真空,硬,软和接近曝光模式,并可选择背面对准。此外,该系统还提供其他功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。 EVG610提供快速的处理和重新安装工具,可在不到几分钟的时间内转换用户需求。其**的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。
特征
晶圆/基片尺寸从最大200 mm / 8'’ 顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台 自动楔形补偿序列
电动和配方控制的曝光间隙 支持最新的UV-LED技术
最小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导
远程技术支持:
多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换重组;台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能:
键对齐 红外对准 纳米压印光刻(NIL)
技术数据
对齐方式:上侧对齐:≤±0.5 µm 底面要求:≤±2,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /基板材料,具体取决于
键对准:≤±2,0 µm NIL对准:≤±2,0 µm
曝光源:汞光源/紫外线LED光源 楔形补偿 全自动-SW控制
晶圆直径(基板尺寸):高达100/150/200毫米
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式
曝光选项:间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露
**的对齐功能:手动对准/原位对准验证 手动交叉校正 大间隙对齐
系统控制:作业系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制配方和参数;多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR;实时远程访问,诊断和故障排除;
纳米压印光刻技术,紫外线零