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北京亚科晨晖科技有限公司

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  • 经营模式:

    制造商,贸易商

  • 荣誉认证:

        

  • 注册年份:

    2011

  • 主     营:

    光刻机、键合机、原子力显微镜、扫描电镜

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EVG®610 掩模对准系统
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产品: 浏览次数:276EVG®610 掩模对准系统 
功率: 200KW
单价: 面议
最小起订量: 1
供货总量: 6
发货期限: 自买家付款之日起 90 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2024-11-11 09:36
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详细信息
  • 加工定制:是
  • 型号:EVG®610 掩模对准系统
  • 用途:EVG610支持多种标准光刻工艺,例如真空,硬,软和接近曝光模式,并可选择背面对准。
  • 别名:光刻机/对准机

EVG®610  Mask Alignment System

EVG®610   掩模对准系统

 

EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统,可处理200mm以下的小基板片和晶圆。

 

技术数据

EVG610支持多种标准光刻工艺,例如真空,硬,软和接近曝光模式,并可选择背面对准。此外,该系统还提供其他功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。 EVG610提供快速的处理和重新安装工具,可在不到几分钟的时间内转换用户需求。其**的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。

 

特征

晶圆/基片尺寸从最大200 mm / 8'’                顶侧和底侧对齐能力

高精度对准台                                  自动楔形补偿序列

电动和配方控制的曝光间隙                      支持最新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求                  分步流程指导

远程技术支持:

多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换重组;台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能:

键对齐         红外对准        纳米压印光刻(NIL)

 

技术数据

对齐方式:上侧对齐:≤±0.5 µm      底面要求:≤±2,0 µm

红外校准:≤±2,0 µm /基板材料,具体取决于

键对准:≤±2,0 µm      NIL对准:≤±2,0 µm

曝光源:汞光源/紫外线LED光源      楔形补偿      全自动-SW控制

晶圆直径(基板尺寸):高达100/150/200毫米

曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式

曝光选项:间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露       

**的对齐功能:手动对准/原位对准验证    手动交叉校正   大间隙对齐

系统控制:作业系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制配方和参数;多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR;实时远程访问,诊断和故障排除;

纳米压印光刻技术,紫外线零

 

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