HERCULES® NIL   Fully Integrated SmartNIL® UV-NIL Systems

HERCULES®NIL  完全集成的SmartNIL®UV-NIL系统

EVG的HERCULES®NIL产品系列：

HERCULES®NIL完全集成的SmartNIL®UV-NIL系统，**200 mm

HERCULES®NIL完全模块化和集成式SmartNIL®UV-NIL系统，**300 mm

HERCULES®NIL完全集成的SmartNIL®UV-NIL系统，**200 mm；完全集成的纳米压印光刻解决方案，适用于大批量生产，具有EVG专有的SmartNIL®压印技术

HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟踪解决方案，适用于**200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的**成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。

为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软邮票的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印邮票制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保**的缺陷率和**质量的原版复制。

通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在全面积NIL设备解决方案中的领导地位。  *根据ISO 14644

特征

批量生产最小40 nm *或更小的结构

结合了预处理（清洁/涂覆/烘烤/冷却）和SmartNIL®

体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度

全自动压印和受控的低力分离，可**程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化时间最快

优化的模块化平台可实现高吞吐量

*分辨率取决于过程和模板

HERCULES®NIL完全模块化和集成式SmartNIL®UV-NIL系统，**300 mm

包含EVGSmartNIL®技术的完全模块化平台，可支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术

生产应用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟踪系统，在单个平台上将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一起，用于直径**为300 mm的晶片。这是**个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供**的自由度来配置他们的系统，以**地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**进的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。

特征

全自动UV-NIL压印和低力剥离：最多300毫米的基材

完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产最小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状，包括3D

适用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取决于过程和模板

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米/ 200和300毫米

解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm²

对准：≤±3微米

自动分离：支持的

前处理：提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

EVG®770   Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System

EVG®770   分步重复纳米压印光刻系统

分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作

技术数据

EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**50 mm x 50 mm的小模具到**300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

EVG770的主要功能包括**的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。

特征

高效的晶圆级光学微透镜主制造，直至SmartNIL®的纳米结构

简单实施不同种类的大师

可变抗蚀剂分配模式

分配，压印和脱模过程中的实时图像

用于压印和脱模的原位力控制

可选的光学楔形误差补偿

可选的自动盒带间处理

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）100至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm²

对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

**印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印记区域：长达50 x 50毫米

自动分离：支持的

前处理：涂层：液滴分配（可选）

IQ Aligner®  Automated UV Nanoimprint Lithography System

IQAligner®   自动化紫外线纳米压印光刻系统

用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

技术数据

IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。

EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放邮票的释放机制。

特征

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个独立控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个独立控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能

IQ对准器

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）150至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型

曝光源：汞光源

对准：≤±0.5微米

自动分离：支持的

前处理

涂层：水坑点胶（可选）

迷你环境和气候控制

可选的：

工作印章制作：支持的；