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    制造商,贸易商

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  • 注册年份:

    2011

  • 主     营:

    光刻机、键合机、原子力显微镜、扫描电镜

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Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150
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产品: 浏览次数:339Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150 
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最后更新: 2024-11-20 08:52
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  • 加工定制:是
  • 型号:Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150
  • 用途:Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150

Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 15

 

Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150

一、产品简介

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

 

Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯,提供了出色的控温精度和控温重复性。

此款设备配置手动装载系统,适用于研发以及小型的量产。

成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性,结合小的占地面积,低的客户拥有成本,使c.RAPID 150成为一款**的手动RTP设备。

 

二、典型应用

退火:一般退火、接触层(Contact)退火、源/漏退火、势垒金属退火

硅化

氧化

掺杂活化

三、产品特性


 

 

Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150

一、产品简介

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

 

RTP 150型快速热反应设备,采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要,是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。

RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制,采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。

RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。

设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。

 

设备特点:

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