Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 15
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯,提供了出色的控温精度和控温重复性。
此款设备配置手动装载系统,适用于研发以及小型的量产。
成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性,结合小的占地面积,低的客户拥有成本,使c.RAPID 150成为一款**的手动RTP设备。
二、典型应用
退火:一般退火、接触层(Contact)退火、源/漏退火、势垒金属退火
硅化
氧化
掺杂活化
三、产品特性
Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
RTP 150型快速热反应设备,采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要,是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。
RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制,采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。
RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。
设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。
设备特点: