企业特殊行业经营资质信息公示
点击图片查看原图PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版
（PICOSUN™ ALD R-200 Advanced）
名称：原子层沉积系统 产地：芬兰
Picosun简介
Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括*** 大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有du特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN®R-200高级
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。
群集工具，Picoflow™扩散增强剂，卷对卷室，RGA，UHV兼容性，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，用于惰性装载的手套箱集成PICOSUN®R-200高级ALD系统是高级ALD研究工具；
（*）等离子发生器技术特点：
远程血浆源安装到装载室并与反应室连
出色性能的适用于不同化学性质的蓝宝石涂药器
商用微波等离子体发生器，具有300 – 3000 W可调功率，2.45 GHz频率
保护气体在中间空间中流动（无等离子体物质的反向扩散）
在相同的沉积过程中，等离子体和热ALD循环的可能性，而无需对系统进行硬件更改
技术指标
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衬底尺寸和类型 |
50 – 200 mm /单片 |
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***大可沉积直径150 mm基片，竖直放置，10-25片/批次（根据工艺） |
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156 mm x 156 mm 太阳能硅片 |
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3D 复杂表面衬底（使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳） |
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粉末与颗粒（配备扩散增强器） |
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多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品 |
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工艺温度 |
50 – 500 °C, 可选更高温度（真空腔体外壁不用任何冷却方式即可保持温度低于60 °C） |
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基片传送选件 |
气动升降（手动装载） |
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预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ） |
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前驱体 |
液态、固态、气态、臭氧源 |
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4根du立源管线，***多加载6个前驱体源 |
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对蒸汽压低的前驱体(1mbar~10mbar)，用氮气等载气导入前驱体瓶内引出 |
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重量 |
350kg |
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尺寸（ W x H x D)） |
取决于选件 |
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***小146 cm x 146 cm x 84 cm |
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***大189 cm x 206 cm x 111 cm |
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选件 |
PICOFLOW™扩散增强器，集成椭偏仪，QCM， RGA，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集 |
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成（用于惰性气体下装载）。 |
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验收标准 |
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
