企业特殊行业经营资质信息公示
点击图片查看原图PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300**版
（PICOSUN™ ALD P-300 Advanced）
名称：原子层沉积系统 产地：芬兰
Picosun简介
Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括*** 大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现**的均匀性，包括***具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更**的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度***小的薄膜层。在***基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
PICOSUN®R-300**
Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和***短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了***大产能以及***节约成本的情况下得到**的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以****满足客户***苛刻的产线需求。
技术指标
|
衬底尺寸和类型 |
156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背） |
|
高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背） |
|
|
大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等） |
|
|
粉末与颗粒 |
|
|
Roll-to-roll, 衬底***大宽 300 mm |
|
|
多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品 |
|
|
工艺温度 |
50-500℃ |
|
基片传送选件 |
气动升降（手动装载） |
|
半自动装载，用线性装载器实现 |
|
|
全自动转载，用工业机器人实现 |
|
|
前驱体 |
液态、固态、气态、臭氧源 |
|
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 |
|
|
4根独立源管线，***多加载6个前驱体源 |
|
|
重量 |
400 + 300 kg |
|
尺寸 (W x H x D) |
149 cm x 191 cm x 111 cm |
|
选件 |
PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。 |
|
验收标准 |
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
应用领域
客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
|
材料 |
非均匀性(1σ) |
|
AI2O3 (batch) |
0.13% |
|
SiO2 (batch) |
0.77% |
|
TiO2 |
0.28% |
|
HfO2 |
0.47% |
|
ZnO |
0.94% |
|
Ta2O5 |
1.00% |
|
TiN |
1.10% |
|
CeO2 |
1.52% |
|
Pt |
3.41% |
