超高精度气浮位移台平台光栅尺激光直写

　　厦门越昌科技推出的超高精度平台光栅尺激光直写系统，以纳米级定位精度与无掩模直写工艺为核心优势，通过高精度光栅尺实时反馈平台运动位置，实现激光束在材料表面的**扫描曝光，可覆盖从微米级到纳米级的微纳结构制造需求，为多行业提供高效灵活的图形加工解决方案。

　　在半导体与微电子制造领域，该系统可用于ASIC芯片、传感器及**封装工艺的微纳图形直写，支持灰阶光刻与多层套刻工艺，套刻精度可达±0.5μm，部分高端型号可达100nm，能够实现0.3μm以上的最小特征尺寸加工，适配晶圆级光刻、微机电系统(MEMS)器件制造等场景，无需制作掩模即可快速完成图形迭代，大幅缩短研发与试产周期。

　　在微光学与生物医疗领域，系统可加工晶圆级光学器件、衍射光学元件、微流体芯片及生物芯片，支持三维结构制备，能够**控制光强分布实现灰阶曝光，满足微透镜阵列、微流道结构等复杂图形的加工需求，为光学传感、体外诊断、器官芯片等前沿领域提供可靠的制造支撑。

　　在光纤传感与航空航天领域，系统可配合飞秒激光实现光纤布拉格光栅(FBG)的**直写，能够在多芯光纤中逐点刻写纳米级折射率调制结构，制备的光栅耐温极限可突破1200℃，适配航空发动机、核反应堆等极端环境下的温度、应变监测需求，同时支持在单根光纤上写入数百个光栅传感点，实现大范围分布式监测。

　　在科研与新材料研究领域，系统支持DXF、GDSII等多种图形格式导入，可灵活调整激光功率、扫描速度等参数，适配硅、陶瓷、金属、聚合物等多种材料的微加工需求，可用于新型光子器件、超材料结构的研发试制，为高校与科研院所的微纳制造研究提供高效工具。