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真空气氛炉箱式炉

一、真空气氛箱式炉概述：

真空气氛箱式炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

二、真空气氛箱式炉特点

炉膛材料：采用陶瓷纤维材料，节能，升温速度快，高温不掉粉，炉管为高铝瓷管

采用智能控制仪，仪表采用模块化结构，EML抑制技术，模糊PID调节，具有抗干扰能力强，控制精度高，冲温值小。

双四位LED数码显示，加热功率光柱显示

具有手动/自动无干扰切换，控制参数自整定功能，具有温度补偿功能和温度较正功能。

可编程满足30个时段连续控温和恒温要求，实现定时自动升温和恒温。

真空系统采用**的专利型三级密封技术，真空度大，真空泄漏小，真空度可达-0.098Mpa

充分体现快速，准确，稳定，随意，人性化设计。

三、真空箱式炉规格型号

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询。