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HMDS真空干燥箱

用途概述

HMDS真空干燥箱，即HMDS真空镀膜机或叫HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。

智能型HMDS真空干燥系统通过对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间

等参数的控制可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭

的环境中进行，完全没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、

玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基片在涂胶前改善表面活性，增加光刻胶与基底的粘附力的设备，也可用

于晶片其它工艺的清洗，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。

产品特点

※采用PLC工控自动化系统，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作智能方便。

※PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠；

※智能化触摸屏控制系统，可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间；

具有双层高强度钢化玻璃观察窗，监测方便，一体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内密封真空度高；

外壳和加热管均采用不锈钢材质，内胆316L不锈钢且无任何电气配件及易燃易爆装置，无发尘材料；

以蒸汽的形式涂布到晶片表面，液态涂布均匀，可一次处理4盒以上的晶片，节省药液，工作效率高；

去水烘烤和增粘（疏水）处理一机完成无需转移，有效规避HMDS泄露的风险；

HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性好，确保HMDS气体不外漏；

多余的HMDS蒸汽（尾气）由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道，确保安全以及环保。

技术参数：