苏州亿拓光电科技有限公司 已通过实名认证

Laser graphic direct writing equipment saves tedious Mask processing steps and provides rapid, efficient and lowcost optical engraving process solutions. Especially for users who have the external coordination requirements of photoengraving Mask, they can make their own corresponding masks to reduce costs or improve the development speed requirements.This product USES high power semiconductor laser light source, long life and low power consumption;User interface friendly and flexible, support a variety of layout design format;Can be based on their own needs, convenient and flexible choice of different projection multiplier to achieve a variety of modes of exposure.Can be applied to 350nm node noncritical layer mask in large scale IC production version to the direct write lithography and 0.8m node device.