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centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物（SiC）或镓-氮化合物（GaN） 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低，所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。

特点：

高活化率

表面粗糙程度最小

温度*达 1850°C

批量规模高达 50硅片（150mm）

加热率*达 150 K/min

通过SiH4可实现硅“过压

Oxidator150-高温氧化炉

Oxidator 150 高温炉由 centrotherm thermal solutions 设计开发，专门用于硅-碳化合物（SiC）的氧化处理。设备*可承受 1400°C 的工艺温度，氧化工艺使用 O2、N2O、NO、NO2 或湿法氧化气体，灵活性和工艺质量**。

Oxidator 150 装有非金属加热装置和双真空，是当前市场上最安全的毒性气体氧化炉。

技术参数： 

批量处理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它组合
*加热率可达 7.5 K/min
批量规模高达 50片硅片（150 mm）
工艺压力：850 mbar 至常压下